-
全國統一服務電話
400-825-7688 18610051395
電子、半導體行業解決（jué）方案
2021-09-16
半導（dǎo）體生產廢氣、電子廠廢氣的形成
半（bàn）導體生產製造過程可以分（fèn）為3個階段：晶（jīng）體材料生（shēng）產階段、各種型號晶片製造階段和組裝階段（duàn），其中汙染輕（qīng）的組裝（zhuāng）階段僅涉
及組裝工藝（yì），汙染較為嚴重（chóng）的是晶片製造階段。
清洗工藝為保留芯片表麵特性，采（cǎi）用化學溶液有（yǒu）效的清除半導體矽片表麵的灰塵、殘留有機物和吸附（fù）在表（biǎo）麵的（de）各（gè）種離子，主要產
生各類廢（fèi）氣及廢液。晶（jīng）圓鍵合以有無中間過渡層可分為直接鍵合和中間層鍵（jiàn）合，而（ér）直接鍵合方式具有鍵合強度高的優勢，是目前應用
的主流，鍵合工序汙染較小僅產生廢水（shuǐ）。
氧（yǎng）化是在高溫惰性環境（jìng）下，通（tōng）入氧（yǎng）氣或含氧（yǎng）水汽，將（jiāng）矽片表麵的矽（guī）氧（yǎng）化生長氧化層，過程一（yī）般是（shì）將作為原料的（de）矽晶圓片放入潔淨
的石（shí）英爐管中，主要產生工藝廢氣。光刻是芯片製造的核心工藝，包括塗（tú）膠、曝光、顯影3個（gè）步驟。塗膠工藝（yì）是摻雜的過程主要采用離
子注入技術進行摻雜，以改變所使用的材料的電學性質，在電子（zǐ）噴淋裝置中，用氙氣產生的等離子體中和矽片表麵的正電（diàn）荷，主要產
生工藝廢氣。
在矽片的表（biǎo）麵（miàn）通過矽片（piàn）高速旋轉從而使其表麵（miàn）均勻地塗上光刻膠；曝光工藝為使用光刻（kè）機，並使用光掩膜版對已塗膠的（de）矽片進行
光照，；顯影工藝為去除曝光後矽片上（shàng）的光刻（kè）膠，這（zhè）些過程產生汙染較大，產生廢氣（qì）、廢水、固體廢物。刻蝕技術主要分為兩大類（lèi）：
液（yè）態的濕法（fǎ）刻蝕和氣態的幹法刻蝕。幹法（fǎ）刻蝕：幹法刻蝕也是（shì）一種去除光刻膠未覆蓋區域的（de）薄膜的主要產生工藝廢氣。
半導體生產廢（fèi）氣、電子廠廢氣特性
主要治理工藝
VOC廢氣處（chù）理可（kě）使用如下工藝設備
1. UV光解（jiě）催化（huà）氧化（huà）法、低溫等離子法、活性炭淨化法、混合處理法
2. 催化燃燒處理法（CO）
3. 蓄熱式催化燃燒法（RCO）
4. 沸石（shí）轉輪+CO/沸石（shí）轉輪+TO/沸石轉輪+RCO/沸石轉輪+RTO
相關行業案例
廊坊市某電子（zǐ）廠 天津某電子廠
治理（lǐ）工藝：洗滌（dí）+催化燃燒 治理工藝：洗滌+催化燃燒
河北某（mǒu）小型電子（zǐ）廠 廊坊某半導體廠
治理工藝：洗滌+智能催化（huà）燃燒 治理工（gōng）藝：洗滌+活性炭
 | 北京匯科智創環（huán）保科技有限公司 三河市匯科環（huán）保科（kē）技有限公司 電話：400-825-7688 手機：13784804900 郵 箱：08ty@163.com 北京公司：北京市金沙西街17號院3號樓 三河公司：北京東燕郊高新區科技大街146號（hào） 生產（chǎn）工廠：北京東大廠智能裝備產業園 www.shan-shang.com |
相關解決方案
友情鏈接：
Copyright © 2021 三河市匯科環保科技有限（xiàn）公司 版（bǎn）權所有 冀（jì）1CP備18032915號-1
Copyright © 2021 三河市匯科環保（bǎo）科（kē）技有限公司 版權所有 冀1CP備18032915號-1
